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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0239830 (2011-09-22) |
등록번호 | US-8269967 (2012-09-18) |
우선권정보 | JP-2009-080107 (2009-03-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 4 |
A method of attaching an object to be measured to a structure causing a diffraction phenomenon; irradiating the structure to which the object to be measured is attached and which causes the diffraction phenomenon with an electromagnetic wave; detecting the electromagnetic wave scattered by the struc
1. A measuring method, comprising: attaching an object to be measured directly to a portion of a surface of a structure which causes a diffraction phenomenon, said structure having a plurality of void portions whose largest dimension is 1/10th to 10 times the wavelength of the measuring electromagne
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