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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0393377 (2009-02-26) |
등록번호 | US-8273178 (2012-09-25) |
우선권정보 | KR-10-2008-0018234 (2008-02-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 137 |
A thin film deposition apparatus and a method of maintaining the same are disclosed. In one embodiment, a thin film deposition apparatus includes: a chamber including a removable chamber cover; one or more reactors housed in the chamber; a chamber cover lifting device connected to the chamber cover.
1. A thin film deposition system comprising: a chamber including a removable chamber cover;a chamber cover lifting device connected to the chamber cover, the chamber cover lifting device being configured to move the chamber cover vertically between a lower position and an upper position; anda level
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