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Thermal reflow of glass and fused silica body 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-023/045
  • C03B-023/051
  • C03B-023/055
출원번호 US-0275620 (2008-11-21)
등록번호 US-8312740 (2012-11-20)
발명자 / 주소
  • Burdette, Steven Roy
  • Chu, Polly Wanda
  • Fagan, James Gerard
  • Hobbs, Thomas William
  • Likitvanichkul, Sumalee
  • Sempolinski, Daniel Raymond
  • Taft, Terry Lee
  • Walters, Michael John
출원인 / 주소
  • Corning Incorporated
대리인 / 주소
    Santandrea, Robert P.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 7

초록

Disclosed are synthetic silica glass body with a birefringence pattern having low fast axis direction randomness factor and glass reflow process. The glass reflow process comprises steps of: providing a glass tube having a notch; and thermally reflowing the glass tube to form a glass plate. The proc

대표청구항

1. A process for making glass plate comprising the following steps: (I) providing a ready-to-flow notched glass tube having (a) a longitudinal tube center axis, (b) an identified section between two cross-sections perpendicular to the tube center axis having a longitudinal section length L1; and (c)

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Gilliland John W. (Horseheads NY), Forming optical fiber having abrupt index change.
  2. Yosiaki Ise (Yamagata JPX) Kazuo Asajima (Fukui-ken JPX) Shinichi Okosi (Yamagata JPX) Hiroyuki Kimura (Fukui JPX), Manufacturing method and equipment for large, high-purity flat or curved quartz glass plate.
  3. Frank Coriand DE; Andreas Menzel DE; Walter Nadrag AT; Wolfgang Schmidt DE, Method and device for producing a homogenous sheet of quartz glass without streaks.
  4. Okamoto Haruo (Joetsu JPX) Yamada Motoyuki (Joetsu JPX), Method for molding a fused quartz glass block.
  5. Englisch Wolfgang (Kelkheim DEX) Goy Heinrich (Hasselroth DEX) Sauerwein Paul (Rodenbach DEX) Hitzschke Peter (Rodenbach DEX) Simmat Fritz (Gelnhausen DEX) Takke Rolf (Hanau DEX) Steiner Gerhard (Sel, Process for the production of a homogeneous ream-free body made of quartz glass.
  6. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
  7. Ohashi Norio,JPX ; Kuriyama Michiyo,JPX ; Yamagata Shigeru,JPX ; Sunada Shigemasa,JPX, Synthetic silica glass used with uv-rays and method producing the same.
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