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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0612352 (2006-12-18) |
등록번호 | US-8316866 (2012-11-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 99 |
A method for cleaning a substrate is provided. The method initiates with applying an activation solution to a surface of the substrate. The activation solution and the surface of the substrate are contacted with a surface of a solid cleaning surface. The activation solution is absorbed into a portio
1. A cleaning system for a semiconductor substrate, comprising: a support configured to support the semiconductor substrate;an activation solution;a fluid delivery system configured to deliver the activation solution to a surface of the semiconductor substrate;a solid phase cleaning element defined
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