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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0179915 (2011-07-11) |
등록번호 | US-8317930 (2012-11-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 49 |
Methods and apparatus for cleaning a substrate (e.g., wafer) in the fabrication of semiconductor devices utilizing electrorheological (ER) and magnetorheological (MR) fluids to remove contaminant residual particles from the substrate surface are provided.
1. A semiconductor substrate comprising: a surface with structures situated thereon and a rheological fluid in contact with the surface and the structures; wherein the rheological fluid is formulated to change viscosity up to a viscoelastic semi-solid but not solid consistency responsive to an elect
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