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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0555479 (2006-11-01) |
등록번호 | US-8322025 (2012-12-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 137 |
Closely spaced, high aspect-ratio gridline structures are formed on the surface of a substrate using two or more co-extrusion heads that co-extrude gridline material and sacrificial material such that the deposited gridline material is compressed between opposing portions of the sacrificial material
1. An apparatus for forming a plurality of high-aspect ratio gridline structures on a substrate, the apparatus comprising: first and second co-extrusion heads positioned over a surface of the substrate such that first outlet orifices of the first co-extrusion head define a first line extending is a
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