최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0315366 (2011-12-09) |
등록번호 | US-8361549 (2013-01-29) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 11 |
A method for preventing particle contamination within a processing chamber is disclosed. Preheating the substrate within the processing chamber may cause a thermophoresis effect so that particles within the chamber that are not adhered to a surface may not come to rest on the substrate. One method t
1. A method of processing a substrate within a processing chamber, comprising: high pressure loading a substrate within a processing chamber, wherein the high pressure loading comprises raising a pressure within the processing chamber to about 1 Torr to about 10 Torr and heating the substrate while
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.