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Vacuum vapor processing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/448
  • C23C-016/455
  • C23C-016/458
  • C23C-016/46
  • C23F-001/00
  • H01L-021/306
  • C23C-016/06
  • C23C-016/22
출원번호 US-0440635 (2007-09-10)
등록번호 US-8375891 (2013-02-19)
우선권정보 JP-2006-245303 (2006-09-11); JP-2006-248964 (2006-09-14)
국제출원번호 PCT/JP2007/067573 (2007-09-10)
§371/§102 date 20090521 (20090521)
국제공개번호 WO2008/032668 (2008-03-20)
발명자 / 주소
  • Nagata, Hiroshi
  • Nakamura, Kyuzo
  • Katou, Takeo
  • Nakatsuka, Atsushi
  • Mukae, Ichirou
  • Itou, Masami
  • Yoshiizumi, Ryou
  • Shingaki, Yoshinori
출원인 / 주소
  • Ulvac, Inc.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 27

초록

There is provided a vacuum evaporating apparatus which is suitable for performing a process in which a metal vapor atmosphere is formed in a processing chamber, the metal atoms in this metal vapor atmosphere are caused to be adhered to the surface of an object to be processed, and the metal atoms ad

대표청구항

1. A vacuum evaporating apparatus comprising: a processing furnace;at least one processing box disposed inside the processing furnace;a heating means for heating the processing box; andan evacuating means, connected to the processing furnace for evacuating the processing furnace to a predetermined p

이 특허에 인용된 특허 (27)

  1. Ushikoshi Ryusuke (Tajima JPX) Sakon Atsushi (Nagoya JPX) Umemoto Koichi (Toyota JPX) Niiori Yusuke (Inuyama JPX), Ceramic heaters and heating devices using such ceramic heaters.
  2. Pearce Charles W. (Emmaus PA) Schmidt Paul F. (Allentown PA), Diffusion furnace.
  3. Uemori,Susumu; Aitani,Takashi, Electric heater for a semiconductor processing apparatus.
  4. Pozzetti Vittorio (Brugherio ITX) Poggi Piergiovanni (Milan ITX) Preti Franco (Milan ITX), Epitaxial reactors.
  5. Monoe Osamu (Sagamihara JPX), Forced cooling apparatus for heat treatment apparatus.
  6. Nakao Ken (Sagamihara JPX), Heat treatment apparatus.
  7. Okase Wataru (Sagamihara JPX) Yagi Yasushi (Zama JPX) Kawachi Satoshi (Yokohama JPX), Heat treatment method and apparatus thereof.
  8. Okase Wataru (Sagamihara JPX) Yagi Yasushi (Zama JPX) Kawachi Satoshi (Yokohama JPX), Heat treatment method and apparatus thereof.
  9. Saito,Takanori; Yamaga,Kenichi; Nakao,Ken, Heat treatment system.
  10. Uchiyama Taroh,JPX ; Yoshikawa Yukio,JPX ; Tsukamoto Takashi,JPX ; Nishihama Jiro,JPX, Low pressure CVD system.
  11. Nishi Katsuo (Tokyo JPX) Terada Kazuo (Kumamoto-ken JPX) Ohkase Wataru (Sagamihara JPX) Yamaga Kenichi (Sagamihara JPX), Method and apparatus for controlling temperature in rapid heat treatment system.
  12. Arima Noburu (Kubiki JPX) Ogino Nobuyosi (Tokyo JPX) Kimura Hirosi (Takefu JPX), Method of forming thin film and apparatus therefor.
  13. Stoddard Kevin ; Hugues Jean Benoit ; Tsakalis Konstantinos, Model based temperature controller for semiconductor thermal processors.
  14. Bang Dong-Soo (Seoul KRX) Kim Jun-Young (Suweon KRX), Open tube-type impurity-diffusion apparatus for simultaneously diffusing impurities into a plurality of wafers subjected.
  15. Learn, Arthur J.; Du Bois, Dale R.; Miller, Nicholas E.; Seilheimer, Richard A., Primary flow CVD apparatus comprising gas preheater and means for substantially eddy-free gas flow.
  16. Philipossian Ara (Stoneham MA), Reactant exhaust system for a thermal processing furnace.
  17. Bethune Edwin M. ; Olmsted Donald, Semiconductor processing furnace heating control system.
  18. Yamanaka,Hideo, Semiconductor thin film forming method, production methods for semiconductor device and electrooptical device, devices used for these methods, and semiconductor device and electrooptical device.
  19. Hwang, Chul-Joo; Lee, Sang-Do, Substrate supporting means having wire and apparatus using the same.
  20. Takeshi Nishiuchi JP; Yoshimi Tochishita JP; Fumiaki Kikui JP; Mitsuo Kizawa JP, Surface treating process.
  21. Kevin Stoddard ; Paul R. McHugh ; Konstantinos Tsakalis, Temperature control system for a thermal reactor.
  22. Stoddard Kevin ; McHugh Paul R. ; Tsakalis Konstantinos, Temperature control system for a thermal reactor.
  23. Stoddard Kevin ; McHugh Paul R. ; Tsakalis Konstantinos, Temperature control system for a thermal reactor.
  24. Kowalski Jeffrey M. ; Ratliff Christopher T. ; Koble ; Jr. Terry A. ; Pack Jon H. ; Yang Michael H., Thermal processing apparatus.
  25. Koble ; Jr. Terry A. (Lake Forest CA) Dip Anthony (Austin TX) Engdahl Erik H. (Anaheim CA) Oliver Ian R. (San Diego CA) Ratliff Christopher T. (Corona del Mar CA), Thermal processing apparatus and process.
  26. Tsukazaki Hisashi (Hyogo JPX) Oakamoto Goro (Hyogo JPX) Ito Yuki (Hyogo JPX) Yamanishi Kenichiro (Hyogo JPX) Ito Hiroki (Hyogo JPX) Hanai Masahiro (Hyogo JPX) Ishii Hiroyuki (Hyogo JPX), Thin film deposition apparatus.
  27. Ohkase Wataru (Sagamihara JPX), Vertical heat treatment apparatus with a rotary holder turning independently of a liner plate.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Hsu, Chia-Ling, Film coating apparatus.
  2. Ito, Hideki; Tsumori, Toshiro; Suzuki, Kunihiko; Tsuchida, Hidekazu; Kamata, Isaho; Ito, Masahiko; Naito, Masami; Fujibayashi, Hiroaki; Adachi, Ayumu; Nishikawa, Koichi, Film-forming manufacturing apparatus and method.
  3. Hara, Daisuke; Itoh, Takeshi; Fukuda, Masanao; Yamaguchi, Takatomo; Hiramatsu, Hiroaki; Saido, Shuhei; Sasaki, Takafumi, Substrate processing apparatus.
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