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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0305987 (2011-11-29) |
등록번호 | US-8383301 (2013-02-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 12 |
Methods for designing, fabricating, and using attenuated phase shift reticles, or photomasks are disclosed. Methods are also disclosed for subdividing the radiation blocking regions of previously fabricated reticles of previously existing designs. The methods may include forming radiation blocking r
1. A method for fabricating a reticle, comprising: forming a radiation blocking material over a transparent substrate;patterning the radiation blocking material to define radiation blocking regions in a pattern to be transferred to the transparent substrate; andseparating the radiation blocking regi
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