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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0892427 (2010-09-28) |
등록번호 | US-8404123 (2013-03-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 27 |
In accordance with the invention, there is a method of forming a nanochannel including depositing a photosensitive film stack over a substrate and forming a pattern on the film stack using interferometric lithography. The method can further include depositing a plurality of silica nanoparticles to f
1. A nanochannel device for selectively separating components of a fluid comprising: at least one first nanochannel having a first opening;at least one second nanochannel having a second opening; andat least one porous divider having a plurality of pores between the first and the second nanochannel,
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