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| 공백 | 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 | 예1) (나노 기계) 예2) 나노 장영실 |
| | | 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 | 예1) (줄기세포 | 면역) 예2) 줄기세포 | 장영실 |
| ! | NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 | 예1) (황금 !백금) 예2) !image |
| * | 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 | 예) semi* |
| "" | 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 | 예) "Transform and Quantization" |
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특허 상세정보
Method of producing a sputter target material
| 국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC7판) | B22F-001/00 |
| 미국특허분류(USC) | 419/032; 204/298.13; 204/298.12; 419/019; 419/028; 419/030; 419/033; 419/048 |
| 출원번호 | US-0479121 (2009-06-05) |
| 등록번호 | US-8409498 (2013-04-02) |
| 우선권정보 | JP-2004-102899 (2004-03-31); JP-2004-121955 (2004-04-16) |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 | |
| 대리인 / 주소 |
|
| 인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 0 |
초록
A sputter target material which is of a sintered material, wherein the sputter target material consists of 0.5 to 50 atomic % in total of at least one metal element (M) selected from the group of Ti, Zr, V, Nb and Cr, and the balance of Mo and unavoidable impurities, and has a microstructure seen at a perpendicular cross section to a sputtering surface, in which microstructure oxide particles exist near a boundary of each island of the metal element (M), and wherein the maximum area of the island, which is defined by connecting the oxide particles with l...
대표
청구항
1. A method of producing a sputter target material, which comprises the steps of: blending raw powders of Mo and at least one metal element (M) selected from the group consisting of Ti, Zr, V, Nb and Cr;compressing the blended raw powders by a cold isostatic pressing method to form a green compact of the blended raw powder;pulverizing the green compact of blended raw powder to produce a secondary powder having an average particle size of not more than 5.0 mm;filling the secondary powder into a pressurizing container; andsintering the secondary powder as ...
