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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0059031 (2008-03-31) |
등록번호 | US-8425785 (2013-04-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 22 |
In some embodiments, an improved mechanical adhesion of copper metallization to dielectric with partially cured epoxy fillers is presented. In this regard, a substrate build-up film is introduced having epoxy material and a plurality of epoxy microspheres, wherein an interior of the microspheres is
1. A method comprising: laminating a build-up film to a metallization layer of a substrate, wherein the build-up film includes epoxy micro spheres at least partially embedded within a separate matrix, wherein the micro spheres include an interior that is substantially uncured, and an exterior formed
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