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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0763734 (2010-04-20) |
등록번호 | US-8425855 (2013-04-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 70 |
In an embodiment, a reactor includes a section, wherein at least a portion of the section includes a base layer, wherein the base layer has a first composition that contains a silicide-forming metal element; and a silicide coating layer, wherein the silicide coating layer is formed by a process of e
1. A reactor for producing polysilicon, comprising: a first section, wherein at least a portion of the first section has a first composition that comprises: i) at least one first layer, wherein the at least one first layer consists essentially of: at least 37 wt. % nickel andthe balance being at lea
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