최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0775939 (2010-05-07) |
등록번호 | US-8426236 (2013-04-23) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 14 |
A grid stack structure of a solar cell, which includes a silicon substrate, wherein a front side of the silicon is doped with phosphorus to form a n-emitter and a back side of the silicon is screen printed with aluminum (Al) metallization; a dielectric layer, which acts as an antireflection coating
1. A method of a grid stack structure of a solar cell comprising: texturing a surface of a silicon substrate;doping a front side of the silicon with phosphorus to make a n-emitter;screen printing a back side of the silicon substrate with aluminum (Al) metallization and fired at high temperature;depo
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.