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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0486471 (2006-07-14) |
등록번호 | US-8454810 (2013-06-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 162 |
A plasma source includes a hexagonal hollow cathode, the cathode including six targets and six magnets to generate and maintain a high density plasma; and an anode located beneath the cathode. A second hexagonal hollow cathode can be positioned concentric to the hexagonal hollow cathode.
1. A hollow cathode magnetron, comprising: a first hexagonal hollow cathode, the cathode including six targets arranged in a hexagonal shape and one or more magnets associated with each of the six targets to generate and maintain a high density plasma;a second hexagonal hollow cathode including six
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