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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0525712 (2012-06-18) |
등록번호 | US-8465907 (2013-06-18) |
우선권정보 | JP-2001-164695 (2001-05-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 16 |
There is disclosed a manufacturing method for exposure mask, which comprises acquiring a first information showing surface shape of surface of each of a plurality of mask substrates, and a second information showing the flatness of the surface of each of mask substrates before and after chucked on a
1. A method of manufacturing a device, comprising: preparing a mask substrate, wherein a simulated flatness of a surface of the mask substrate when the mask substrate is chucked on an exposure apparatus satisfies a specification of a flatness with respect to the surface of the mask substrate;forming
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