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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0888084 (2010-09-22) |
등록번호 | US-8470355 (2013-06-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 42 인용 특허 : 38 |
The present disclosure relates to implants including a porous substrate, a first hydrogel precursor, a second hydrogel precursor and a mesh. The first and second hydrogel precursors are applied to the porous substrate. The mesh has a first portion in contact with the porous substrate and a second po
1. An implant comprising: a porous substrate;a first hydrogel precursor and a second hydrogel precursor applied to the porous substrate; anda mesh having a first portion embedded within the porous substrate and a second portion exposed for tissue contact, wherein the porous substrate is positioned a
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