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Solar-cell marking method and solar cell

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/76
출원번호 US-0224403 (2007-02-28)
등록번호 US-8492240 (2013-07-23)
우선권정보 DE-10 2006 009 584 (2006-02-28)
국제출원번호 PCT/EP2007/051925 (2007-02-28)
§371/§102 date 20080826 (20080826)
국제공개번호 WO2007/099138 (2007-09-07)
발명자 / 주소
  • Mueller, Joerg
  • Patzlaff, Toralf
출원인 / 주소
  • Hanwha Q.CELLS GmbH
대리인 / 주소
    Collard & Roe, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 17

초록

The invention relates to a solar-cell marking method comprising the steps of: providing a substrate with a substrate surface for producing a solar cell (1) that comprises an active zone (5); and producing at least one indentation (21, 31) in the substrate surface with the use of laser irradiation, w

대표청구항

1. A solar-cell marking method comprising the steps of providing a substrate with a substrate surface for producing a solar cell that comprises an active zone; andproducing at least one indentation in the substrate surface with the use of laser irradiation, wherein the at least one indentation forms

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Ruei-Je Shiu TW; Dian-Hau Chen TW, Chemical mechanical polish (CMP) planarizing method employing topographic mark preservation.
  2. Corley Dean (Tempe AZ) Littlebury Hugh W. (Chandler AZ), Integral semiconductor wafer map recording.
  3. Wenham Stuart R. (Sydney AUX) Green Martin A. (Sydney AUX), Laser grooved solar cell.
  4. Johnson Gregory A. ; Taravade Kunal N., Method and apparatus for scribing a code in an inactive outer clear out area of a semiconductor wafer.
  5. Chen Sheng-Hsiung,TWX ; Tsai Ming-Hsing,TWX, Method for marking a wafer without inducing flat edge particle problem.
  6. Pschunder Willi (Ilsfeld DEX) Steinmetz Gerhard (Bretzfeld-Dimbach DEX), Method of contacting a solar cell.
  7. Hiraishi, Masafumi; Sawai, Kazunori, Method of controlling manufacturing process of photoelectric conversion apparatus.
  8. Kiriseko Tadashi (Kanagawa JPX), Method of identifying a semiconductor wafer utilizing a light source and a detector.
  9. Mitchell Peter (Bloomington MN), Method of providing a mark for identification on a silicon surface.
  10. Witte Dale A. ; Ragan Tracy, Method of slicing silicon wafers for laser marking.
  11. Caplan Sandor (Lawrenceville NJ), Precision marking of layers.
  12. Bruel Michel (Veurey FRX), Process for the production of thin semiconductor material films.
  13. Mori Masahiro,JPX ; Fukae Kimitoshi,JPX ; Inoue Yuji,JPX ; Ohtsuka Takashi,JPX, Solar cell module provided with means for forming a display pattern.
  14. Zaidi, Shoaib H.; Williams, Gary; Gutmann, Alois, System and method of enhancing alignment marks.
  15. Oishi Hiroshi,JPX ; Asakawa Keiichiro,JPX, Wafer having a laser mark on chamfered edge.
  16. Barker,Brian C.; Bunkofske,Raymond J.; Colt, Jr.,John Z.; Hartswick,Perry G.; Lewis,John W.; Pascoe,Nancy T., Wafer identification mark.
  17. Barker,Brian; Bunkofske,Raymond; Colt,John; Hartswick,Perry; Lewis,John; Pascoe,Nancy, Wafer identification mark.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Giese, Mario; Berthold, Stephan, Hand-guided marking system.
  2. Sugimura, Misa; Yokoyama, Toshiro, Semiconductor memory device and method of manufacturing the same.
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