$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Device and method for supplying gas while dividing to chamber from gas supplying facility equipped with flow controller

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-011/13
출원번호 US-0561514 (2004-06-10)
등록번호 US-8496022 (2013-07-30)
우선권정보 JP-2003-177134 (2003-06-20)
국제출원번호 PCT/JP2004/008117 (2004-06-10)
§371/§102 date 20051220 (20051220)
국제공개번호 WO2004/114038 (2004-12-29)
발명자 / 주소
  • Sugiyama, Kazuhiko
  • Ikeda, Nobukazu
  • Nishino, Kouji
  • Dohi, Ryousuke
  • Uenoyama, Toyomi
출원인 / 주소
  • Fujikin Incorporated
대리인 / 주소
    Griffin & Szipl, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 11

초록

The invention supplies a quantity Q of gas while dividing at flow rate ratio Q1/Q2 from a gas supply facility equipped with a flow controller. A total quantity Q=Q1+Q2 of gas is supplied into a chamber at flow rate Q1 and Q2 through shower plates fixed to ends of branch supply lines by providing ope

대표청구항

1. A device for supplying gas divided to a chamber from a gas supply facility equipped with a flow controller, the device comprising: (a) a gas supply device disposed to supply a specified quantity of gas, while dividing the specified quantity of gas at a specified flow rate ratio Q1/Q2 from the gas

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Wilmer Michael E., Dynamic gas flow controller.
  2. Thomsen Svend E. (Nordborg DKX), Flow amplifier.
  3. Ohmi Tadahiro,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Morokoshi Hiroshi,JPX, Fluid control system and valve to be used therein.
  4. Fujii Takuya (Isehara JPX) Yamazaki Susumu (Hadano JPX), Metal organic chemical vapor deposition method with controlled gas flow rate.
  5. Sugiyama,Kazuhiko; Ikeda,Nobukazu; Nishino,Kouji; Dohi,Ryosuke; Uenoyama,Toyomi, Method of supplying divided gas to a chamber from a gas supply apparatus equipped with a flow-rate control system.
  6. Nishino Koji (Osaka JPX) Ikeda Nobukazu (Osaka JPX) Morimoto Akihiro (Osaka JPX) Minami Yukio (Osaka JPX) Kawada Koji (Osaka JPX) Dohi Ryosuke (Osaka JPX) Fukuda Hiroyuki (Osaka JPX), Pressure type flow rate control apparatus.
  7. Mettes Jacques (Doylestown PA) Kimura Takako (Toyosato JPX) Schack Michael (Dusseldorf DEX), Process for producing standard gas mixture and apparatus for producing the same.
  8. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Davis Cecil J. (Greenville TX) Matthews Robert T. (Plano TX), Programmable multizone gas injector for single-wafer semiconductor processing equipment.
  9. Matthew Thomas Taylor ; John Christopher Hallahan ; William R. Clark, System and method for dividing flow.
  10. Yasushi Yagi JP; Takeshi Sakuma JP; Wataru Okase JP; Masayuki Kitamura JP; Hironori Yagi JP; Eisuke Morisaki JP, Thermal treatment method and apparatus.
  11. Matsuse Kimihiro,JPX ; Lee Hideki,JPX ; Osada Hatsuo,JPX ; Tanaka Sumi,JPX, Vacuum processing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Borghesani, Omero; Zecchi, Stefano, Apparatus and method for flow equipartition.
  2. Sawada, Yohei; Ikeda, Nobukazu; Dohi, Ryousuke; Nishino, Kouji, Apparatus for dividing and supplying gas and method for dividing and supplying gas by use of this apparatus.
  3. Kashima, Toshihiro; Honda, Kohei; Hayashi, Tatsuya, Flow rate ratio control apparatus and program for flow rate ratio control apparatus.
  4. Kobayashi, Hiroyuki; Maeda, Kenji; Yokogawa, Kenetsu; Izawa, Masaru; Kanekiyo, Tadamitsu, Plasma processing apparatus.
  5. Kobayashi, Hiroyuki; Maeda, Kenji; Yokogawa, Kenetsu; Izawa, Masaru; Kanekiyo, Tadamitsu, Plasma processing apparatus.
  6. Olmscheid, Michael; Hecker, Manfred; Karer, Rainer; De Lange, Paulus-Petrus Maria, Process and apparatus for mixing and splitting fluid streams.
  7. Somani, Bhushan, Real time diagnostics for flow controller systems and methods.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트