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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0841986 (2004-05-06) |
등록번호 | US-8500965 (2013-08-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 26 |
The present invention is a method of coating a substrate in a single zone of a MSVD coater wherein the zone includes at least two bays, comprising running a first bay of a zone including a first target in metal mode and running the second bay including a second target in transition or oxide mode, wh
1. A method of coating a substrate with a metal layer and a metal oxide layer in a single zone of a MSVD coater, comprising: providing a first bay of a zone including a first target comprising a first metal to deposit a metal coating layer;providing a second bay of the zone including a second target
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