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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0612371 (2006-12-18) |
등록번호 | US-8522801 (2013-09-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 102 |
A method for cleaning a substrate is provided. The method initiates with disposing a fluid layer having solid components therein to a surface of the substrate. A shear force directed substantially parallel to the surface of the substrate and toward an outer edge of the substrate is then created. The
1. A substrate cleaning system, comprising: a fluid reservoir configured to deliver a fluid having solid components to a surface of a substrate;a force transferring entity having a compliant membrane disposed over an outer surface, the force transferring entity being one of a bubble or a droplet, th
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