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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0589891 (2012-08-20) |
등록번호 | US-8544219 (2013-10-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 14 |
A system adapted to remove radon gas and drainage liquid from a subterranean chamber or basement having a floor and an ambient environment. The system has a drainage channel forming a drainage portion and a venting portion. A valve is located between the drainage portion and the venting portion. Dra
1. A drainage and ground vapor mitigation system adapted for ground vapor isolation of and liquid drainage from a subterranean chamber or basement having a floor and an internal environment, the system comprising: a drainage channel, at least in part inside the subterranean chamber or basement, comp
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