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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0345487 (2012-01-06) |
등록번호 | US-8556679 (2013-10-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 71 |
A polishing pad assembly for a chemical mechanical polishing apparatus includes a polishing pad having a polishing surface and a surface opposite the polishing surface for attachment to a platen, and a solid light-transmissive window formed in the polishing pad. The light-transmissive window is more
1. A method of in-situ optical monitoring of a substrate during chemical mechanical polishing, comprising: directing a light beam onto the substrate during chemical mechanical polishing;measuring an intensity of a reflection of the light beam from the substrate and to generate a signal;passing the s
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