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CO2 recovery system and CO2 absorption liquid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/14
출원번호 US-0898188 (2010-10-05)
등록번호 US-8568520 (2013-10-29)
우선권정보 JP-2009-233898 (2009-10-07)
발명자 / 주소
  • Ohashi, Yukio
  • Ogawa, Takashi
  • Yamanaka, Susumu
  • Yamashita, Katsuya
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toshiba
대리인 / 주소
    Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 9

초록

In an embodiment, a CO2 recovery system has an absorber, a regenerator, and a circulation device. An absorption liquid has an aqueous solution of amine having an alcohol group, and dimethyl silicone oil in which a part of methyl groups is substituted by at least one type selected from an aminoalkyl

대표청구항

1. A CO2 recovery system, comprising: an absorber for absorbing CO2 contained in a combustion exhaust gas of a fossil fuel into an absorption liquid by contacting the combustion exhaust gas and the absorption liquid;a regenerator for releasing CO2 by applying thermal energy to the CO2-absorbed absor

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Kunihiko Yoshida JP; Tomio Mimura JP; Shigeru Shimojo JP; Mutsunori Karasaki JP; Masaki Iijima JP; Touru Seto JP; Shigeaki Mitsuoka JP, Method for removing carbon dioxide from combustion exhaust gas.
  2. Yoshida Kunihiko,JPX ; Mimura Tomio,JPX ; Shimojo Shigeru,JPX ; Karasaki Mutsunori,JPX ; Iijima Masaki,JPX ; Seto Touru,JPX ; Mitsuoka Shigeaki,JPX, Method for removing carbon dioxide from combustion exhaust gas.
  3. Ryosuke Araki JP; Masaki Iijima JP; Shigeaki Mitsuoka JP; Hiroshi Tanaka JP, Method for the regeneration of an acid gas absorbing fluid containing methydiethanolamine and a (lower alkyl) piperazine.
  4. Ohta Kazuro (Yokohama JPX), Method of defoaming amine solutions.
  5. Sartori ; Guido ; Leder ; Frederic, Process and amine-solvent absorbent for removing acidic gases from gaseous mixtures.
  6. Sartori ; Guido ; Leder ; Frederic, Process for removing carbon dioxide containing acidic gases from gaseous mixtures using a basic salt activated with a h.
  7. Sartori ; Guido ; Leder ; Frederic, Process for removing carbon dioxide containing acidic gases from gaseous mixtures using aqueous amine scrubbing solutio.
  8. Suzuki Hitomi (Kyoto JPX) Hayakawa Atsushi (Nara JPX) Mimura Tomio (Osaka JPX) Shimojo Shigeru (Osaka JPX) Shimayoshi Hidenobu (Osaka JPX) Iijima Masaki (Tokyo JPX) Mitsuoka Shigeaki (Hiroshima JPX) , Process for removing carbon dioxide from gases.
  9. Doerges Alexander (Frankfurt am Main DEX) Kriebel Manfred (Frankfurt am Main DEX) Schlauer Johann (Frankfurt am Main DEX), Process of removing H2S, CO2, COS and mercaptans from gases by absorption.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Podsiadlo, Paul; Wu, Jianxin; Benitez, Kiara M.; Li, Quanchang; Calabro, David Charles, Adsorbent for heteroatom species removal and uses thereof.
  2. Podsiadlo, Paul; Li, Quanchang; Calabro, David Charles; Beeckman, Jean Willem Lodewijk; Zhang, Lei; Benitez, Kiara M.; Ide, Matthew Scott; McCarthy, Stephen John; Afeworki, Mobae; Weston, Simon Christopher; Kamakoti, Preeti; Shah, Matu J.; Lai, Wenyih Frank; Nines, Meghan; Griffin, David A.; Johnson, Ivy D., Aromatic hydrogenation catalysts and uses thereof.
  3. Podsiadlo, Paul; Li, Quanchang; Calabro, David C.; Benitez, Kiara M.; Mertens, Machteld M. W.; Weigel, Scott J.; Levin, Doron; Partridge, Randall D., Catalysts and methods of making the same.
  4. Li, Quanchang; Partridge, Randall D., Coating methods using organosilica materials and uses thereof.
  5. Weigel, Scott J.; Zhang, Lei; Li, Quanchang; Lacy, Darryl Donald; Podsiadlo, Paul; Calabro, David Charles; Kaul, Bal; Gleeson, James William, Methods of separating aromatic compounds from lube base stocks.
  6. Holtcamp, Matthew W.; Bedoya, Matthew S.; Harlan, Charles J.; Li, Quanchang; Mertens, Machteld M. W., Olefin polymerization catalyst system comprising mesoporous organosilica support.
  7. Holtcamp, Matthew W.; Harlan, Charles J.; Li, Quanchang; Mertens, Machteld M. W., Olefin polymerization catalyst system comprising mesoporous organosilica support.
  8. Li, Quanchang; Kamakoti, Preeti; Calabro, David Charles; Lee, Mary Kathryn; Cundy, Stephen M.; Mao, Kanmi; Shah, Matu J.; Peiffer, Dennis George; Leta, Daniel P., Organosilica materials and uses thereof.
  9. Podsiadlo, Paul; Li, Quanchang; Calabro, David Charles; Zhang, Lei; Benitez, Kiara M.; Gupta, Himanshu; Xu, Xiaochun; Weigel, Scott J.; Lacy, Darryl Donald; Kaul, Bal; Gleeson, James William; Lai, Wenyih Frank; Afeworki, Mobae; Weston, Simon Christopher; Griffin, David A.; Nines, Meghan, Organosilica materials and uses thereof.
  10. Falkowski, Joseph M.; Afeworki, Mobae; Calabro, David C.; Griffin, David A.; Weston, Simon C., Sulfur terminated organosilica materials and uses thereof.

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