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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0562818 (2009-09-18) |
등록번호 | US-8585030 (2013-11-19) |
우선권정보 | JP-2008-250343 (2008-09-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 38 |
Disclosed is a substrate processing apparatus which can inhibit the occurrence of spots, such as watermarks, by reducing the remaining of the liquid that has been used for liquid treatment, inhibit the turn-over of the wafer, and improve throughput. In the disclosed substrate processing apparatus in
1. A substrate processing apparatus that includes a carrying means to carry a plurality of substrates while vertically holding the plurality of substrates with a plurality of holders, at least one of the plurality of holders comprising: a holding groove part including a roughly V-shaped holding groo
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