최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0009400 (2011-01-19) |
등록번호 | US-8591634 (2013-11-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 15 |
An apparatus and process for recovering a desired gas such as xenon difluoride, xenon, argon, helium or neon, from the effluent of a chemical process reactor that utilizes such gases alone or in a gas mixture or in a molecule that becomes decomposed wherein the chemical process reactor uses a sequen
1. An apparatus for recovering a desired gas from the effluent of a chemical process reactor that utilizes two or more separate gas compositions in sequence, comprising; (a) a chemical process reactor provided with one or more lines for introducing two or more separate gas compositions into the chem
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.