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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0325826 (2011-12-14) |
등록번호 | US-8591876 (2013-11-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 252 |
Provided herein are methods of using gaseous nitric oxide and/or at least one nitric oxide source to or decrease sebum production in the skin of a subject. In some embodiments, the nitric oxide source includes small molecule and/or macromolecular NO-releasing compounds.
1. A method of decreasing sebum production in skin of a subject comprising applying a pharmaceutically acceptable composition comprising a nitric oxide (NO)-releasing compound to the skin of the subject, wherein the NO-releasing compound is present in an amount sufficient to decrease sebum productio
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