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Reflective reticle chuck, reflective illumination system including the same, method of controlling flatness of reflective reticle using the chuck, and method of manufacturing semiconductor device using the chuck 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-027/62
  • G03B-027/54
  • G03F-007/20
출원번호 US-0948370 (2010-11-17)
등록번호 US-8599360 (2013-12-03)
우선권정보 KR-10-2009-0118034 (2009-12-01)
발명자 / 주소
  • Heo, Jin-Seok
  • Park, Chang-Min
  • Yeo, Jeong-Ho
  • Park, Joo-On
  • Kim, In-Sung
출원인 / 주소
  • Samsung Electronics Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Lee & Morse, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 13

초록

Provided are a reflective reticle chuck, a reflective illumination system including the chuck, a method of controlling the flatness of a reflective reticle using the chuck, and a method of manufacturing a semiconductor device using the chuck. The reflective reticle chuck includes a fixed portion and

대표청구항

1. A reflective reticle chuck, comprising: a frame in an outer portion; anda plurality of cells in a central region, the cells including:fixed portions having a grating shape, andmobile portions in the fixed portions, the fixed portion and the mobile portion together providing a securing surface for

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Caldwell,Brian Neal; Jeffer,Raymond Walter; Kindt,Louis M., Adaptive electrostatic pin chuck.
  2. Firtion Victor A. (Secaucus NJ) Herriott Donald R. (Morris Township ; Morris County NJ) Poulsen Martin E. (New Providence NJ) Rongved Leif (Summit NJ) Saunders Thomas E. (Basking Ridge NJ), Apparatus and method for holding and planarizing thin workpieces.
  3. Ameer George A. (Andover MA), Deformable mirror system having replaceable actuators.
  4. Spinhirne James M. (Albuquerque NM), Deformable mirror with pneumatic actuator pre-load.
  5. Nishi Kenji,JPX, Exposure apparatus wherein a wafer contact portion of a movable stage includes linear ridges.
  6. Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
  7. Taniguchi Motoya (Kamakura JPX) Kuni Asahiro (Tokyo JPX) Funatsu Ryuichi (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Inagaki Akira (Yokohama JPX), Light-exposure apparatus.
  8. Butler,Hans; Klaassen,Franciscus Adrianus Gerardus, Lithographic apparatus and device manufacturing method.
  9. Vandenberg Donald E. (Brockport NY) Jacques Donald A. (Pittsford NY) Schaffer William E. (Spencerport NY), Method for correction of distortions of a mirror.
  10. Tsukamoto, Izumi; Fujita, Itaru; Nogawa, Hideki; Takabayashi, Yukio, Substrate attracting and holding system for use in exposure apparatus.
  11. Sakai Fumio (Kawasaki JPX) Isohata Junji (Tokyo JPX), Surface shape controlling device.
  12. Sogard, Michael, System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography.
  13. Heo, Sung Soo, Wafer loading apparatus.
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