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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0616282 (2012-09-14) |
등록번호 | US-8608857 (2013-12-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 51 |
Methods and apparatus for cleaning a substrate (e.g., wafer) in the fabrication of semiconductor devices utilizing electrorheological (ER) and magnetorheological (MR) fluids to remove contaminant residual particles from a surface of the substrate are provided.
1. A method for cleaning a surface of a semiconductor substrate having residual particles thereon comprising: introducing a rheological fluid having a fluid viscosity onto the semiconductor substrate;increasing the viscosity of the rheological fluid to suspend the residual particles within the rheol
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