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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0330904 (2008-12-09) |
등록번호 | US-8628616 (2014-01-14) |
우선권정보 | JP-2007-319735 (2007-12-11); JP-2007-326001 (2007-12-18); JP-2008-221600 (2008-08-29); JP-2008-232493 (2008-09-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 31 |
A vapor-phase process apparatus and a vapor-phase process method capable of satisfactorily maintaining quality of processes even when different types of processes are performed are obtained. A vapor-phase process apparatus includes a process chamber, gas supply ports serving as a plurality of gas in
1. A vapor-phase process apparatus, comprising: a process chamber in which a reaction gas flows;a plurality of gas introduction portions formed in a wall portion of said process chamber along a direction of flow of said reaction gas; anda flow-guide plate formed to cover said gas introduction portio
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