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Beam control assembly for ribbon beam of ions for ion implantation

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G21K-001/08
출원번호 US-0889278 (2013-05-07)
등록번호 US-8680480 (2014-03-25)
발명자 / 주소
  • Chen, Jiong
출원인 / 주소
  • Advanced Ion Beam Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Morrison & Foerster LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 16

초록

A beam control assembly to shape a ribbon beam of ions for ion implantation includes a first bar, second bar, first coil of windings of electrical wire, second coil of windings of electrical wire, first electrical power supply, and second electrical power supply. The first coil is disposed on the fi

대표청구항

1. A beam control assembly to shape a ribbon beam of ions for ion implantation, the beam control assembly comprising: a first bar, wherein the ribbon beam has a beam width and travels in a beam direction, wherein a first dimension corresponds to the beam width and a second dimension corresponds to t

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Chen,Jiong; White,Nicholas R., Apparatus and methods for ion beam implantation.
  2. Chen,Jiong; White,Nicholas R., Apparatus and methods for ion beam implantation using ribbon and spot beams.
  3. Purser, Kenneth H.; Enge, Harald A.; Turner, Norman L., Controlling the characteristics of implanter ion-beams.
  4. Purser,Kenneth H.; Enge,Harald A.; Turner,Norman L., Controlling the characteristics of implanter ion-beams.
  5. Fukuma Kouji (Yokohama JPX) Okuyama Nobutaka (Yokohama JPX) Sakurai Soichi (Yokohama JPX) Yoshioka Hiroshi (Mobara JPX) Obara Yoshihiro (Mizusawa JPX) Mizuta Takahisa (Mobara JPX), Deflection yoke device and color cathode ray tube using the same.
  6. White,Nicholas R., Electromagnetic regulator assembly for adjusting and controlling the current uniformity of continuous ion beams.
  7. Crow James Terry, Generating highly uniform electromagnetic field characteristics.
  8. White Nicholas R. ; Sieradzki Manny, High current ribbon beam ion implanter.
  9. Asbach,Ronald M.; Van Huystee,Maarten, Infant support with selectively covered tray.
  10. Hilton F. Glavish ; John Stuart Gordon, Ion implanter and a method of implanting ions.
  11. White,Nicholas R., Method and fine-control collimator for accurate collimation and precise parallel alignment of scanned ion beams.
  12. Ono, Atsushi; Chikawa, Yasunori; Kanda, Makoto; Nie, Norimitsu; Tone, Satoru; Shiota, Motoji; Inohara, Akio; Yoshida, Hirokazu, Semiconductor device with bumps on electrode pads oriented in given direction.
  13. Naofumi Furuta JP; Sadao Noda JP, System for detecting disk-shaped object such as semiconductor wafer or magnetic disk.
  14. Purser, Kenneth H.; Gupta, Atul, Technique for improving uniformity of a ribbon beam.
  15. Purser, Kenneth H.; Buff, James S.; Benveniste, Victor, Technique for reducing magnetic fields at an implant location.
  16. Hamm Robert W. (Pleasanton CA), Variable frequency RFQ linear accelerator.
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