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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0500513 (2010-10-06) |
등록번호 | US-8685598 (2014-04-01) |
우선권정보 | JP-2009-233576 (2009-10-07) |
국제출원번호 | PCT/JP2010/005996 (2010-10-06) |
§371/§102 date | 20120405 (20120405) |
국제공개번호 | WO2011/043071 (2011-04-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 4 |
Disclosed is a pellicle having a mask adhesive layer having appropriate softness, having a small adhesive residue after being peeled off from a mask, and having good handling characteristics; and a pellicle for preventing position deviation of patterns, in particular in double patterning. The pellic
1. A pellicle comprising: a pellicle frame;a pellicle membrane disposed on one end surface of the pellicle frame; andan adhesive layer disposed on the other end surface of the pellicle frame,wherein the adhesive layer consists of a mask adhesive which contains 100 weight parts of a styrene resin (A)
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