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Kafe 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0875208 (2010-09-03) |
등록번호 | US-8696879 (2014-04-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 413 |
The invention provides methods and equipment for depositing a low-maintenance coating.
1. A sputtering target having a sputterable material comprising both titania and tungsten oxide, wherein the sputterable material includes: i) tungsten in oxide form, ii) TiO, and iii) TiO2. 2. The sputtering target of claim 1 wherein substantially all the tungsten in the sputterable material is in
1. A sputtering target having a sputterable material comprising both titania and tungsten oxide, wherein the sputterable material includes: i) tungsten in oxide form, ii) TiO, and iii) TiO2. 2. The sputtering target of claim 1 wherein substantially all the tungsten in the sputterable material is in oxide form. 3. The sputtering target of claim 1 wherein the sputterable material consists essentially of: i) tungsten in oxide form, ii) TiO, and iii) TiO2. 4. The sputtering target of claim 1 wherein the target is a cylindrical rotary target, the sputterable material being carried on an exterior wall of an elongated backing tube, the elongated backing tube having a length of at least 24 inches, the target being adapted to rotate about a central axis to which the exterior wall of the backing tube is substantially parallel.
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