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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0987235 (2011-01-10) |
등록번호 | US-8702469 (2014-04-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 9 |
A moisture management fabric using denier differential to facilitate the movement of sweat away from the wearer's body is presented. An exemplary moisture management support garment constructed from an exemplary moisture management fabric is presented. An exemplary moisture management support garmen
1. A moisture management support garment comprising: a first fabric layer comprising a first yarn of a first denier per filament, wherein the first denier per filament is between 0.50 and 1.04;a second fabric layer adjacent the first fabric layer comprising a second yarn of a second denier per filam
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