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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0046181 (2011-03-11) |
등록번호 | US-8753725 (2014-06-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 33 |
A method for plasma immersion ion processing including providing a hollow substrate having an interior surface defining an interior and a gas feed tube extending through the interior, wherein the gas feed tube is hollow and includes a wall having a plurality of holes defined therein and applying ten
1. A method for plasma immersion ion processing, comprising: providing a hollow substrate having an interior surface defining an interior and a gas feed tube extending through said interior, wherein said gas feed tube is hollow and includes a wall having a plurality of holes or diffusers defined the
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