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System for purging reticle storage

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/67
  • H01L-021/677
출원번호 US-0305895 (2007-06-19)
등록번호 US-8776841 (2014-07-15)
국제출원번호 PCT/US2007/014428 (2007-06-19)
§371/§102 date 20100721 (20100721)
국제공개번호 WO2007/149513 (2007-12-27)
발명자 / 주소
  • Kishkovich, Oleg P.
  • Gabarre, Xavier
  • Goodwin, William M.
  • Lo, James
  • Scoggins, Troy
출원인 / 주소
  • Entegris, Inc.
대리인 / 주소
    Christensen Fonder P.A.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 28

초록

The present invention provides a method, system, and components for protecting reticles and specifically for minimizing haze formation on reticles during storage and use. By substantially continually maintaining a purge in a storage housing having a reduced humidity level on reticles or by temporari

대표청구항

1. A reticle handling system comprising: a storage housing defining an enclosed interior environment with open space;a plurality of reticle pods for use therein;a gas delivery system that can be fluidly coupled to a purge gas source;the storage housing comprising a plurality of reticle storage recep

이 특허에 인용된 특허 (28)

  1. Nulman,Jaim; Sidi,Nissim, Apparatus for storing and moving a cassette.
  2. Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise , Article storage house in a clean room.
  3. Nakao, Tatsuo, Article storage system for a clean room.
  4. Yamashita Teppei,JPX ; Murata Masanao,JPX ; Tanaka Tsuyoshi,JPX ; Morita Teruya,JPX ; Kawano Hitoshi,JPX ; Hayashi Mitsuhiro,JPX ; Okuno Atsushi,JPX ; Nakamura Akio,JPX, Electronic substrate processing system using portable closed containers.
  5. Halbmaier,David L.; Simpson,Anthony; Goodwin,William M.; Kishkovich,Oleg P.; Kielbaso,Thomas B.; Manganiello,Frank, Environmental control in a reticle SMIF pod.
  6. Mack Michael E. (Manchester MA), Fluid flow control method and apparatus for minimizing particle contamination.
  7. Paul E. Lewis ; Adel George Tannous ; Karl A. Davlin, Method and apparatus for processing tool interface in a manufacturing environment.
  8. Tanigawa Osamu,JPX, Method and apparatus for wafer processing.
  9. Elliott,Martin R.; Rice,Michael Robert; Lowrance,Robert B.; Hudgens,Jeffrey C.; Englhardt,Eric Andrew; Stuart,Loy Randall, Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing.
  10. Glenn A. Roberson, Jr. ; Robert M. Genco ; Robert B. Eglinton ; Wayland Comer ; Gregory K. Mundt, Molecular contamination control system.
  11. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
  12. Fosnight William J. ; Shenk Joshua W., Passively activated valve for carrier purging.
  13. Yamashita Teppei,JPX ; Murata Masanao,JPX ; Tanaka Tsuyoshi,JPX ; Kawano Hitoshi,JPX ; Morita Teruya,JPX, Portable closed container.
  14. Tieben, Anthony Mathius; Halbmeier, David L.; Kolbow, Steven P., Purge system for a substrate container.
  15. Foulke, Richard F.; Foulke, Jr., Richard F.; Ohlenbusch, Cord W.; Lui, Takman, Reticle storage system.
  16. Yamada Yoshiaki,JPX ; Watanabe Hiroshi,JPX, Semiconductor wafer storage apparatus and semiconductor device fabricating apparatus using said apparatus.
  17. Asakawa Teruo (Yamanashi JPX), Stock unit for storing carriers.
  18. Yoshio Kimura JP; Issei Ueda JP; Mitiaki Matsushita JP; Kazuhiko Ito JP, Substrate processing apparatus and substrate processing method.
  19. Muraoka,Yusuke; Saito,Kimitsugu; Iwata,Tomomi; Fukatsu,Eiji; Mizobata,Ikuo; Ueno,Hiroyuki; Okuyama,Yasuo; Gama,Takashi; Sakashita,Yoshihiko; Watanabe,Katsumi; Munemasa,Jun; Oshiba,Hisanori; Sarumaru,Shogo, Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system.
  20. Suzuki, Yoko; Tanaka, Akira; Kishi, Takashi, Substrate transport apparatus, pod and method.
  21. Van Der Meulen, Peter, System for transporting substrates.
  22. Puerto,Santiago del; Loopstra,Erik R.; Massar,Andrew; Kish,Duane P.; Alikhan,Abdullah; Olson,Woodrow J.; Feroce,Jonathan H., System for using a two part cover for and a box for protecting a reticle.
  23. del Puerto, Santiago; Loopstra, Erik R.; Massar, Andrew; Kish, Duane P.; Alikhan, Abdullah; Olson, Woodrow J.; Feroce, Jonathan H., System for using a two part cover for protecting a reticle.
  24. Baseman Robert J. (Brewster NY) Brown Charles A. (Los Gatos CA) Eldridge Benjamin N. (Hopewell Junction NY) Rothman Laura B. (South Kent CT) Wendt Herman R. (San Jose CA) Yeh James T. (Katonah NY) Zi, Vapor drain system.
  25. Bohon, III, Ellis Gray, Vibrating wafer particle cleaner.
  26. Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise , Wafer airtight keeping unit and keeping facility thereof.
  27. Tokunaga,Kenji, Wafer carrier, wafer conveying system, stocker, and method of replacing gas.
  28. Bexten Daniel P. ; Norby Jerry R., Wafer container cleaning system.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Tsai, Wen-Chang; Ku, Shao-Yen; Wei, Hsieh-Ching; Chiang, Yuan Chih; Chang, Jui-Chuan; Tsai, Yung-Li, Method of etching and cleaning wafers.
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