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Focusing ring 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • 15-09
출원번호 US-0417080 (2012-03-29)
등록번호 US-D709539 (2014-07-22)
우선권정보 JP-D2011-022452 (2011-09-30)
발명자 / 주소
  • Kuwabara, Yusei
  • Nagakubo, Keiichi
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Leydig, Voit & Mayer, Ltd.
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 29

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

The ornamental design for a focusing ring, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (29)

  1. Berkoh, Daniel K.; Woodard, Elena B.; Scott, Dean G., Apparatus and methods for electrical measurements in a plasma etcher.
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  2. Hayashi,Daisuke, Attracting disc for an electrostatic chuck for semiconductor production.
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  3. Hayashi,Daisuke, Attracting disc for an electrostatic chuck for semiconductor production.
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  4. Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Baffle plate.
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  5. Matsumoto, Naoki; Yoshikawa, Jun, Baffle plate for manufacturing semiconductor.
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  6. Kimura Norifumi,JPX, Cap for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
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  7. Nagakubo,Keiichi; Satoh,Daiki, Cover ring.
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  8. Nagakubo,Keiichi; Satoh,Daiki, Cover ring.
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  9. Uchino,Takeo; Shichida,Hiroyuki; Isozaki,Masakazu; Tsubone,Tsunehiko; Makino,Akitaka, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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  10. Fukasawa Kazuo (Nirasaki JPX), Electrode for a semiconductor processing apparatus.
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  11. Mayer, Steven T.; Porter, David; Rash, Robert, Electroplating flow shaping plate having offset spiral hole pattern.
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  12. Sugimoto, Hiroya, Electrostatic chuck.
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  13. Takahashi, Syuichi; Sasaki, Yasuharu, Exhaust ring for manufacturing semiconductors.
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  14. Tezuka, Kazuyuki; Kitazawa, Takashi; Amikura, Norihiko; Koizumi, Hiroshi, Exhaust ring for manufacturing semiconductors.
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  15. Furlong,Brian D., Food storage container.
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  16. Sun,Jennifer Y.; Thach,Senh; Dempster,James; Xu,Li; Pham,Thanh N., Gas distribution plate fabricated from a solid yttrium oxide-comprising substrate.
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  17. Nakamura,Tsutomu; Tauchi,Susumu; Makino,Akitaka, Grounded electrode for a plasma processing apparatus.
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  18. Yamaguchi, Akira; Tomita, Hideshi, Highly heat-resistant plasma etching electrode and dry etching device including the same.
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  19. Landis,Michael; Fink,Steven T, Method and apparatus for improved focus ring.
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  20. Lee, Jeong Ho; Jeong, Sang Jin; Kim, Woo Chan, Plasma inducing plate for semiconductor deposition apparatus.
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  21. Ishii Katsutoshi,JPX, Ring for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
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  22. Tamura, Kazuyoshi; Kawai, Makoto; Goto, Keiichi, Silicon focus ring and method for producing the same.
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  23. Lee, Jeong Ho; Jeong, Sang Jin; Jung, Dong Rak, Substrate support for a semiconductor deposition apparatus.
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  24. Raaijmakers Ivo ; Jacobs Loren ; Halpin Mike ; Alexander Jim ; O'Neill Ken ; Goodwin Dennis Lee, Substrate transfer system for semiconductor processing equipment.
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  25. Honma, Manabu; Hishiya, Katsuyuki, Top plate for reactor for manufacturing semiconductor.
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  26. Honma, Manabu; Hishiya, Katsuyuki, Top plate for reactor for manufacturing semiconductor.
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  27. Honma, Manabu; Hishiya, Katsuyuki, Top plate for reactor for manufacturing semiconductor.
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  28. Honma, Manabu; Hishiya, Katsuyuki, Top plate for reactor for manufacturing semiconductor.
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  29. Nagasaka, Munetoshi; Ogasawara, Ikuo; Shinohara, Eiichi, Wafer attracting plate.
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이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Joubert, Olivier; Kenney, Jason A.; Srinivasan, Sunil; Rogers, James; Dhindsa, Rajinder; Achutharaman, Vedapuram S.; Luere, Olivier, Composite edge ring.
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  2. Yamaki, Satoru; Fukushima, Makoto; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Owada, Tomoko; Kishimoto, Masahiko, Elastic membrane for semiconductor wafer polishing.
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  3. Ichino, Takamasa; Sato, Kohei; Nakamoto, Kazunori, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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  4. Ichino, Takamasa; Sato, Kohei; Nakamoto, Kazunori, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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  5. Tauchi, Susumu; Uemura, Takashi; Sato, Kohei, Electrode cover for a plasma processing apparatus.
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  6. Sasaki, Yasuharu; Takahashi, Tomoyuki, Electrostatic chuck for semiconductor manufacturing equipment.
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  7. Sasaki, Yasuharu; Takahashi, Tomoyuki, Electrostatic chuck for semiconductor manufacturing equipment.
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  8. Sasaki, Yasuharu; Takahashi, Tomoyuki, Electrostatic chuck for semiconductor manufacturing equipment.
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  9. Gillespie-Brown, Jon Simon; Meyerhoffer, Thomas Erik, Power charging ring.
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  10. Krishnan, Sandeep; Gurary, Alexander I.; Chang, Chenghung Paul; Marcelo, Earl, Self-centering wafer carrier for chemical vapor deposition.
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  11. Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Yamaki, Satoru, Substrate retaining ring.
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  12. Fukushima, Makoto; Yasuda, Hozumi; Namiki, Keisuke; Nabeya, Osamu; Togashi, Shingo; Yamaki, Satoru, Substrate retaining ring.
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  13. Tateno, Hideto; Hara, Daisuke; Okuno, Masahisa; Joda, Takuya, Vaporizer for substrate processing apparatus.
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