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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0495724 (2009-06-30) |
등록번호 | US-8795466 (2014-08-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 15 |
Apparatus and methods are provided that enable processing of patterned layers on substrates using a detachable mask. Unlike prior art where the mask is formed directly over the substrate, according to aspects of the invention the mask is made independently of the substrate. During use, the mask is p
1. A substrate processing system comprising: a plurality of processing chambers;substrate carriers;drive mechanism enabling the substrate carriers to travel from chamber to chamber; and,mask load/unload module for loading masks onto the substrate carriers so as to obscure at least part of substrate
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