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Load port 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/677
출원번호 US-0628822 (2009-12-01)
등록번호 US-8821098 (2014-09-02)
우선권정보 JP-2008-307023 (2008-12-02)
발명자 / 주소
  • Natsume, Mitsuo
  • Kawahisa, Shin
  • Mizokawa, Takumi
출원인 / 주소
  • Sinfonia Technology Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 7

초록

A load port is disclosed which allows a wafer to be transferred between the inside of a FOUP and the inside of a semiconductor fabrication apparatus even during a purge operation. The load port is provided adjacent the semiconductor fabrication apparatus in a clean room and includes a purge stage ha

대표청구항

1. A load port system to receive and process sealable pods, comprising: a purge stage including a purge portion that discharges a gas atmosphere in a sealable pod from an inside of the sealable pod and introduces nitrogen gas or dry air to the inside of the sealable pod, and a purge stage side recei

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Miyajima Toshihiko,JPX, Clean box, clean transfer method and apparatus therefor.
  2. Fosnight William J. ; Bonora Anthony C. ; Martin Raymond S. ; Tatro Jay, Evacuation-driven SMIF pod purge system.
  3. Aggarwal, Ravinder, Front opening unified pod.
  4. Shiraiwa Hirotsugu (Hino JPX), Heat treatment apparatus.
  5. Glenn A. Roberson, Jr. ; Robert M. Genco ; Robert B. Eglinton ; Wayland Comer ; Gregory K. Mundt, Molecular contamination control system.
  6. Miyashita Masahiro,JPX, Positioning apparatus for substrates to be processed.
  7. Miyajima,Toshihiko; Kagaya,Takeshi; Suzuki,Hitoshi; Sasaki,Mutsuo, Purging system and purging method for the interior of a portable type hermetically sealed container.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Emoto, Jun; Iwamoto, Tadamasa, Gas purge apparatus, load port apparatus, installation stand for purging container, and gas purge method.
  2. Tominaga, Tadamasa, Load port device, transport system, and container carrying out method.
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