[특허]UV nail lamp

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UV nail lamp 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	A45D-029/00 G21K-005/08 A45D-029/22
출원번호	US-0012618 (2011-01-24)
등록번호	US-8835886 (2014-09-16)
발명자 / 주소	Vu, Thong Valia, David
출원인 / 주소	Revlon Consumer Products Corporation
대리인 / 주소	Revlon Consumer Products Corporation
인용정보	피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 10

초록 ▼

A lamp includes: a housing; a platform supported by the housing; a left light source disposed on a left side of the lamp; a right light source disposed on a right side of the lamp; a first top light source disposed at least partially above the platform, wherein; the left and right sources extend closer to a front of the lamp than the first top light source; and a space between the platform and the; light sources; to simultaneously receive therein five nails of all five digits of a hand or foot of a user. The positions of the sources and platform may be designed so as to provide substantially uniform light flux to all five nails so as to synchronously and uniformly cure light-curable nail gel or acrylic on the user's nails.

대표청구항 ▼

1. A lamp comprising: a housing;an upwardly facing platform supported by the housing;a plurality of light sources supported by the housing, the plurality of light sources including a left light source disposed on a left side of the lamp,a right light source disposed on a right side of the lamp, anda first top light source disposed at least partially above the platform, wherein at least one of the left and right sources extends closer to a front of the lamp than the first top light source does; anda spacing between the platform and the plurality of light sources, the space being sized and positioned to simultaneously receive therein five nails of all five digits of a hand or foot of a user so as to expose each of the five nails to at least one of the plurality of light sources;wherein a front of the left light source extends forwardly of a front of the first top light source by a distance xL, a front of the right light source extends forwardly of a front of the first top light source by a distance xR, and at least one of the distances xL and xR is at least 10 mm; andwherein one or more of the left light source and the right light source is slidably supported by slidable supports in the housing so as to permit variability in the distance xL or the distance xR respectively. 2. The lamp of claim 1, wherein the slidable supports for the one or more of the left light source and the right light source are motorized.

이 특허에 인용된 특허 (10)

Amoh Hiroshi (Tokyo JPX), Apparatus for forming aesthetic artificial nails.
상세보기
Grimm Ekkehard (Offenbach am Main DEX), Fingernail irradiation apparatus particularly for curing photocurable plastic artificial fingernails.
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Oppawsky Steffen (Bad Homburg DEX), Fingernail photopolymerization apparatus.
상세보기
Vlahos,George J., Light therapy equipment.
상세보기
Flynn Jerome R. (Anaheim CA), Nail dryer.
상세보기
Nafziger Michael D. (Scottsdale AZ) Davis Roger L. (Tempe AZ), Nail drying apparatus and method therefor.
상세보기
Nastasi, Nicola; Arcidiacono, Dorotea; Mazzali, Stefano, Non-volatile memory cells integrated on a semiconductor substrate.
상세보기
Hennig, Manfred, Optical exposure device in particular a UV table lamp for hardening light-hardening gel in the course of fingernail treatment.
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Strait, Gloria, Portable device for curing gel nail preparations.
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Oppawsky Steffen (Bad Homburg DEX) Burckhardt Holger (Frankfurt DEX), Positively ventilated fingernail irradiation device.
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이 특허를 인용한 특허 (1)

Valia, David; Vu, Thong; Moore, Daniel; Lee, Yin-Jung; Heredia Ferrer, Juan Luis; Paños, Sergio Garcia, Nail lamp.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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