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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0582560 (2009-10-20) |
등록번호 | US-8864956 (2014-10-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 49 |
Ion-enhanced physical vapor deposition is augmented by sputtering to deposit multi-component materials. The process may be used to deposit coatings and repair material on Ti alloy turbine engine parts. The physical vapor deposition may be ion-enhanced electron beam physical vapor deposition.
1. A method for depositing a deposition material on a part comprising: placing the part in a deposition chamber;applying a first electric potential to the part;evaporating by electron beam one or more first components for forming the deposition material;ionizing the evaporated first components, the
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