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Harmonic derived arc detector 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/00
  • H05H-001/00
  • H01J-037/32
출원번호 US-0764145 (2010-04-21)
등록번호 US-8890537 (2014-11-18)
발명자 / 주소
  • Valcore, Jr., John
  • Han, Yufeng
  • Smyka, Jonathan
  • Polizzo, Salvatore
  • Radomski, Aaron T.
출원인 / 주소
  • MKS Instruments, Inc.
대리인 / 주소
    Harness, Dickey & Pierce, P.L.C.
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 13

초록

An arc detection system includes a radio frequency (RF) signal probe that senses a RF signal at an input of a RF plasma chamber and that generates a signal based on at least one of the voltage, current, and power of the RF signal. A signal analyzer receives the signal, monitors the signal for freque

대표청구항

1. An arc detection system, comprising: a radio frequency (RF) signal probe that senses a RF signal at an input of a RF plasma chamber and that generates a signal based on at least one of the voltage, current, and power of the RF signal; anda signal analyzer that receives the signal, monitors the si

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Buda, Paul R., Apparatus and method for arc detection.
  2. Pirkle,David, Apparatus and methods for the detection of an arc in a plasma processing system.
  3. Gesche Roland (Seligenstadt DEX) Vey Norbert (Mittel-Grndau DEX), Circuit configuration for the recognition of a plasma.
  4. Keil,Douglas L., Controlling plasma processing using parameters derived through the use of a planar ion flux probing arrangement.
  5. Anwar,Suhail; Manacio,Remegio; Park,Chung Hee; Yim,Dong Kil; Choi,Soo Young, Detection and suppression of electrical arcing.
  6. Johnson Wayne L. ; Parsons Richard, Device and method for detecting and preventing arcing in RF plasma systems.
  7. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX), Electromagnetic wave measurement of conductive layers of a semiconductor wafer during processing in a fabrication chambe.
  8. Mitrovic,Andrej S., Method and apparatus for determining plasma impedance.
  9. Coumou, David J., Method and apparatus for radio frequency (RF) metrology.
  10. Mahoney, Leonard J.; Almgren, Carl W.; Roche, Gregory A.; Saylor, William W.; Sproul, William D.; Walde, Hendrik V., Sensor array for measuring plasma characteristics in plasma processing environments.
  11. Johnson, Wayne; Parsons, Richard, System and method for monitoring and controlling gas plasma processes.
  12. Wayne Johnson ; Richard Parsons, System and method for monitoring and controlling gas plasma processes.
  13. Gerrish, Kevin S., Voltage current sensor with high matching directivity.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Fisk, II, Larry J.; Radomski, Aaron T.; Smyka, Jonathon W., Adaptive periodic waveform controller.
  2. Bhutta, Imran Ahmed, Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same.
  3. Grede, Andre; Krausse, Daniel; Labanc, Anton; Thome, Christan; Vidal, Alberto Pena, Extinguishing arcs in a plasma chamber.
  4. Bhutta, Imran Ahmed, High speed high voltage switching circuit.
  5. Bhutta, Imran, High voltage switching circuit.
  6. Bhutta, Imran Ahmed, Method for controlling a plasma chamber.
  7. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  8. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  9. Bhutta, Imran Ahmed, RF impedance matching network.
  10. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
  11. Mavretic, Anton, RF impedance matching network.
  12. Mavretic, Anton, Switching circuit.
  13. Mavretic, Anton, Switching circuit.
  14. Mavretic, Anton, Switching circuit for RF currents.
  15. Chen, Zhigang; Marakhtanov, Alexei; Holland, John Patrick, Systems and methods for tailoring ion energy distribution function by odd harmonic mixing.
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