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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0109169 (2011-05-17) |
등록번호 | US-8891948 (2014-11-18) |
우선권정보 | JP-2010-215647 (2010-09-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 8 |
A photodiode excellent in responsivity receives flashes of light emitted from flash lamps in the process of heating a semiconductor wafer by irradiation with flashes of light, and the waveform of the intensity of the flashes of light versus time is acquired using voltage data obtained from an output
1. A heat treatment apparatus for heating a substrate by irradiating the substrate with flashes of light, comprising: a chamber for receiving a substrate;a holder for holding the substrate within said chamber;a flash lamp received in a lamp house and configured to irradiate the substrate held by sai
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