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Liquid flow controller and precision dispense apparatus and system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F16K-031/126
  • G05D-007/06
  • G05D-016/20
출원번호 US-0853674 (2013-03-29)
등록번호 US-8939428 (2015-01-27)
발명자 / 주소
  • Laverdiere, Marc
  • McLoughlin, Robert F.
  • Gonnella, George
  • Gashgaee, Iraj
  • Marrs, Jennifer
출원인 / 주소
  • Entegris, Inc.
대리인 / 주소
    Sprinkle IP Law Group
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 41

초록

Apparatus and a control system for monitoring (preferably digitally) and/or controlling pressure to a pneumatic load such as a proportional fluid control valve and using a measurement input from a fluid measurement device that responds to a flow rate, the liquid measurement input being used to contr

대표청구항

1. An assembly, comprising a valve housing having a cavity, a diaphragm in said cavity adapted to deflect upon the application of force, a first valve cavity, a first diaphragm in said first valve cavity, a second valve cavity, a second diaphragm in said second valve cavity, and a spring biasing sai

이 특허에 인용된 특허 (41)

  1. Yabe Manabu (Kyoto JPX) Kitagawa Masaru (Kyoto JPX) Ohki Takafumi (Kyoto JPX) Fujita Mitsuhiro (Kyoto JPX), Apparatus for delivering a silica film forming solution.
  2. Crafts Douglas E. (San Jose CA) Leonov Mark A. (Santa Clara CA), Apparatus for delivery of a liquid.
  3. Hironori Mastuzawa JP; Kimihito Sasao JP, Back pressure control valve.
  4. Philbin Brian (150 E. Wagon Wheel Dr. Phoenix AZ 85020), Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures.
  5. Baumann Hans D., Control valve positioners having improved operating characteristics.
  6. Kingsford Kenji A. (Devore CA) Nguyen Hy B. (Upland CA), Diaphragm valve with leak detection.
  7. Bailey David C. (San Jose CA) Martin Carl A. (San Jose CA), Dual stage pump system with pre-stressed diaphragms and reservoir.
  8. Bailey David C. ; Martin Carl A., Dual stage pump system with pre-stressed diaphragms and reservoir.
  9. Walton Herbert H. ; Pfantz Douglas C. ; Scott Gary L. ; Bonzer William J. ; Griffin ; Jr. James L. ; Cornu Bernard,FRX ; Day Donald K. ; Adams Paul R., Elastomeric element valve.
  10. Castle Jonathan (Los Angeles CA) Badgen Albert L. (Northridge CA), Electro-pneumatic control system and PID control circuit.
  11. Ruth Michael J. ; Shao Josh S. ; Miller Paul R. ; Hwang Long K., Exhaust gas recirculation valve with variable flow area.
  12. Bailey David C. (San Jose CA) Raphael Ian R. (Campbell CA), Filtering and dispensing system.
  13. Snodgrass Ocie T. (Garland TX) Farney Michael K. (Perryton TX) Gibson Gregory M. (Dallas TX), Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series.
  14. Mastuzawa Hironori,JPX, Flow control valve.
  15. Robert F. McLoughlin ; George L. Gonnella ; Timothy J. King, Flow controller.
  16. Morikawa,Fumio; Kondou,Hiroshi, Flow rate control device.
  17. Yamamoto, Takashi, Fluid controller.
  18. Snodgrass Ocie T. (Garland TX) Farney Michael K. (Irving TX) Gibson Gregory M. (Dallas TX), Fluid dispensing system.
  19. White, William W.; White, William H.; Davis, Christopher B.; Smith, Nelson D., Fluid flow controller and method of operation.
  20. Balazy Richard D. ; Cowan Cathy L. ; Eisenmann Mark R. ; Frink Kenneth E. ; Kulha Edward, Fluid flow controlling.
  21. Inayama, Naoto; Inohara, Tohru, Fluid pressure controller.
  22. Bergamini Lorenzo,ITX, Gas mass flow metering valve.
  23. Haines Lawrence A. (Mapleton UT) Messano Edward A. (Provo UT) Beatty Kenneth L. (Spanish Fork UT) Gooch Robert E. (Provo UT) Glenn Alan H. (Salem UT) O\Hara Dennis E. (Mapleton UT), Integrated process control valve.
  24. Fujita Kazuhiko,JPX, Liquid coating device.
  25. Vavra Randall J. (Orange CA) Doyle Michael J. (Villa Park CA) Vu Kim N. (Yorba Linda CA), Liquid flow controller.
  26. Laverdiere, Marc; McLoughlin, Robert F.; Gonnella, George; Gashgaee, Iraj; Marrs, Jennifer, Liquid flow controller and precision dispense apparatus and system.
  27. Laverdiere, Marc; McLoughlin, Robert F.; Gonnella, George; Gashgaee, Iraj; Marrs, Jennifer, Liquid flow controller and precision dispense apparatus and system.
  28. Wang Wen-Shyan,TWX ; Lu Shih-Hung,TWX, Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line.
  29. Perry ; Jr. Marney Dunman ; McKibbin Philip J. ; Glasscock Mick,GBX ; Krogue John A., Method and apparatus for regulating gas flow.
  30. Davlin, John T.; Montanino, Greg, Method for dispensing flowable substances on microelectronic substrates.
  31. Lull,John Michael; Wang,Chiun; Saggio, Jr.,Joseph A., Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller.
  32. Reinicke, Robert H.; Chow, Peter C. M., Multi-functional regulator.
  33. Takagi Motoshi,JPX ; Nishioka Tadashi,JPX, Photoresist coating apparatus.
  34. Lafler, Lawrence R.; Tanner, Douglas J., Pneumatic volume booster for valve positioner.
  35. Thompson Raymon F. (Kalispell MT) Funk Larry (Kalispell MT), Slow acting fluid valve.
  36. Amada Haruo (Kamisato JPX) Kojima Akihiro (Kasugai JPX) Kagohashi Hiroshi (Kasugai JPX) Sakai Atsuyuki (Nagoya JPX) Shimura Katsumasa (Nagoya JPX) Maekawa Hisamitsu (Kasugai JPX), Spin coating apparatus.
  37. Lull, John M.; Wang, Chiun; Valentine, William S.; Saggio, Jr., Joseph A., System and method for a mass flow controller.
  38. Sanada Masakazu,JPX, Treating solution supplying method and apparatus.
  39. Clements George W. (Minnetonka MN), Two-component metering pump.
  40. Larson,Dwight S.; Tinsley,Kenneth E.; Tariq,Faisal, Valve control system and method.
  41. Lenz Gary A. (Eden Prairie MN) Brown Gregory C. (Minnetonka MN) Warrior Jogesh (Chanhassen MN), Valve positioner with pressure feedback, dynamic correction and diagnostics.
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