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Outer tube for process tube for manufacturing semiconductor wafers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • 13-03
출원번호 US-0420534 (2012-05-10)
등록번호 US-D725053 (2015-03-24)
우선권정보 JP-2011-026684 (2011-11-18)
발명자 / 주소
  • Kaneko, Hirofumi
  • Endo, Atsushi
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Burr & Brown, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 27

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

The ornamental design for an outer tube for process tube for manufacturing semiconductor wafers, as shown and described.

이 특허에 인용된 특허 (27)

  1. Nakamura,Tsutomu; Tauchi,Susumu; Makino,Akitaka, Grounded electrode for a plasma processing apparatus.
  2. Saito,Takanori; Yamaga,Kenichi; Nakao,Ken, Heat treatment apparatus.
  3. Mitsuhashi Hiroyuki (Machida JPX) Sato Seishiro (Machida JPX) Ohkase Wataru (Sagamihara JPX), Heat-treating apparatus.
  4. Shimazu Tomohisa,JPX, Outer tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
  5. Sato, Izumi, Pedestal of heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers.
  6. Suzuki Akira (Nara JPX) Furukawa Katsuki (Osaka JPX), Process for producing a single-crystal substrate of silicon carbide.
  7. Inoue,Hisashi; Endo,Atsushi, Process tube for manufacturing semiconductor wafers.
  8. Kaneko, Hirofumi, Process tube for manufacturing semiconductor wafers.
  9. Matsuura, Hiroyuki; Shimada, Koichi, Process tube for manufacturing semiconductor wafers.
  10. Takahashi, Kiyohiko, Process tube for manufacturing semiconductor wafers.
  11. Kaneko, Hirofumi, Process tube for manufacturing semiconductor wafers or the like.
  12. Ishii,Katsutoshi; Matsuura,Hiroyuki, Process tube for semiconductor device manufacturing apparatus.
  13. Ishii,Katsutoshi; Matsuura,Hiroyuki, Process tube for semiconductor device manufacturing apparatus.
  14. Gero Lawrence R. ; Rowell David M., Process tube with in-situ gas preheating.
  15. Hanagata Tetsuya,JPX ; Watanabe Shingo,JPX, Processing tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
  16. Hanagata Tetsuya,JPX ; Watanabe Shingo,JPX, Processing tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
  17. Shimazu Tomohisa,JPX, Processing tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.
  18. Matsushima Noriaki,JPX, Quartz outer tube.
  19. Hanagata Testuya,JPX ; Watanabe Shingo,JPX, Quartz process tube.
  20. Hanagata Tetsuya,JPX ; Watanabe Shingo,JPX, Quartz process tube.
  21. Nakashima, Seiyo, Reaction tube.
  22. Sakamoto Ichiro,JPX ; Nakamura Naoto,JPX, Semiconductor manufacturing apparatus.
  23. Odake Shigeru,JPX ; Matsumoto Naoki,JPX ; Morita Shinya,JPX ; Tometsuka Kouji,JPX, Substrate processing apparatus and substrate processing method.
  24. Nishi Katsuo,JPX, Support boat for objects to be processed.
  25. Yuuki Tomohiro (Hamamatsu JPX), Thermal treatment with enhanced intra-wafer, intra-and inter-batch uniformity.
  26. Yang Chang-jip (Kyungki-do KRX) Ryu Kyu-bok (Kyungki-do KRX) An Jung-soo (Kyungki-do KRX) An Jun-geen (Kyungki-do KRX), Tube apparatus for manufacturing semiconductor device.
  27. Shimazu Tomohisa,JPX, Tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Jang, Hyun Soo; Lee, Jeong Ho; Kim, Young Hoon, Outer wall of reactor for semiconductor manufacturing apparatus.
  2. Osaka, Akihiro; Yamaguchi, Hideto; Takewaki, Motoya, Reaction tube.
  3. Yoshida, Hidenari; Taniyama, Tomoshi, Reaction tube.
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