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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0199813 (2011-09-09) |
등록번호 | US-9005320 (2015-04-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 11 |
A plasma gasification reactor, and process for its operation, with one or both of, first, a quench zone within an upper part of a top section of the reactor and, second, feed ports through a lateral wall of a middle section of the reactor for supplying feed material to a feed bed within the middle s
1. A plasma gasifier comprising: a refractory-lined reactor vessel including, during operation, a bottom section configured to contain a carbonaceous bed, a top section, and a middle section between the bottom section and the top section;the middle section configured as a truncated inverse cone that
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