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System for X-ray irradiation of target volume 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G21K-001/06
  • A61N-005/10
  • G21K-005/04
출원번호 US-0817562 (2011-08-18)
등록번호 US-9008271 (2015-04-14)
국제출원번호 PCT/IL2011/000675 (2011-08-18)
§371/§102 date 20130315 (20130315)
국제공개번호 WO2012/023141 (2012-02-23)
발명자 / 주소
  • Burshtein, Zeev
  • Bar-David, Aharon
  • Harel, Zeev
출원인 / 주소
  • Convergent R.N.R. Ltd
대리인 / 주소
    The Law Office of Michael E. Kondoudis
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 4

초록

An X-ray system is arranged for providing X-ray exposure to a target volume. The aforesaid X-ray system comprises an X-ray source and at least one focusing lens. The provided exposure is distributed over a volume of the target in a substantially uniform manner.

대표청구항

1. An X-ray system arranged for providing X-ray exposure to a target volume; said system comprising (a) an X-ray source; and(b) at least one focusing lens configured for focusing radiation emitted by said source, said lens being axially symmetric; said lens comprising Bragg-type lens elements longit

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Smither Robert K. (Hinsdale IL), Crystal diffraction lens with variable focal length.
  2. Foster, Richard M.; Turcu, I. C. Edmond, High collection angle short wavelength radiation collimator and focusing optic.
  3. Weidlich Georg A. (Concord CA), Method for dynamic beam profile generation.
  4. Boris Verman ; Licai Jiang ; Bonglea Kim ; Karsten Dan Joensen DK, X-ray lens system.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Corning, Michelle, Energy beam propulsion system.
  2. Corning, Michelle, High energy beam diffraction material treatment system.
  3. Kawahara, Naoki, Methods for manufacturing doubly bent X-ray focusing device, doubly bent X-ray focusing device assembly, doubly bent X-ray spectroscopic device and doubly bent X-ray spectroscopic device assembly.
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