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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0817562 (2011-08-18) |
등록번호 | US-9008271 (2015-04-14) |
국제출원번호 | PCT/IL2011/000675 (2011-08-18) |
§371/§102 date | 20130315 (20130315) |
국제공개번호 | WO2012/023141 (2012-02-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 4 |
An X-ray system is arranged for providing X-ray exposure to a target volume. The aforesaid X-ray system comprises an X-ray source and at least one focusing lens. The provided exposure is distributed over a volume of the target in a substantially uniform manner.
1. An X-ray system arranged for providing X-ray exposure to a target volume; said system comprising (a) an X-ray source; and(b) at least one focusing lens configured for focusing radiation emitted by said source, said lens being axially symmetric; said lens comprising Bragg-type lens elements longit
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