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Clamping device and object loading method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/20
  • H01L-021/683
  • H01L-021/687
출원번호 US-0451749 (2008-06-20)
등록번호 US-9013682 (2015-04-21)
국제출원번호 PCT/NL2008/050407 (2008-06-20)
§371/§102 date 20100416 (20100416)
국제공개번호 WO2008/156366 (2008-12-24)
발명자 / 주소
  • Compen, Rene Theodorus Petrus
  • Jacobs, Johannes Henricus Wilhelmus
  • Leenders, Martinus Hendrikus Antonius
  • Ottens, Joost Jeroen
  • Smeets, Martin Frans Pierre
출원인 / 주소
  • ASML Netherlands B.V.
대리인 / 주소
    Sterne, Kessler, Goldstein & Fox P.L.L.C.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 23

초록

The present invention relates to a clamping device configured to clamp an object (20, 120) on a support (1, 101). The clamping device comprises: a first device configured to force the object and the support away from each other using a first force, and a second device configured to force the object

대표청구항

1. A clamping device configured to clamp an object on a support, the clamping device comprising: a first device configured to force the object and the support away from each other using a first force; anda second device configured to force the object and the support towards each other using a second

이 특허에 인용된 특허 (23)

  1. Tomoharu Fujiwara JP, Electrostatic wafer chucks and charged-particle-beam exposure apparatus comprising same.
  2. Nishi Kenji,JPX, Exposure apparatus wherein a wafer contact portion of a movable stage includes linear ridges.
  3. Inoue Takashi (Sakai JPX) Nagano Hiroyuki (Katano JPX) Ishii Yoshimichi (Neyagawa JPX), Exposure method and exposure apparatus.
  4. Sogard, Michael, Gas cooled electrostatic pin chuck for vacuum applications.
  5. Takahashi Kazuo (Utsunomiya JPX), Immersion type projection exposure apparatus.
  6. Akiyama Nobuyuki (Yokohama JPX) Kembo Yukio (Yokohama JPX) Nakagawa Yasuo (Yokohama JPX) Aiuchi Susumu (Yokohama JPX) Nomoto Mineo (Yokohama JPX), Light exposure device and method.
  7. Segers, Hubert M.; Boon, Rudolf M.; Bijnagte, Anton A.; Jacobs, Fransiscus M., Lithographic projection apparatus.
  8. Nagao Mie,JPX ; Ushikoshi Ryusuke,JPX ; Ohno Masashi,JPX, Method for reducing particles from an electrostatic chuck and an equipment for manufacturing a semiconductor.
  9. Tsutsui, Shinji, Method of and apparatus for adsorbingly fixing a body.
  10. Kuit, Jan-Jaap; Snijders, Niek, Method of loading a substrate on a substrate table and lithographic apparatus and device manufacturing method.
  11. Yamazaki Nobuto (Tokyo JPX) Torihata Minoru (Tokyo JPX) Maki Shinji (Tokyo JPX), Non-contact type moving table.
  12. Feurstein Markus,AUX ; Mertins Jurgen,CHX, Polymerization apparatus and method for controlling polymerization apparatus.
  13. Kinoshita Yoshimi (Amagasaki JPX) Kanda Tomoyuki (Amagasaki JPX) Kitano Katsuhisa (Amagasaki JPX) Yoshida Kazuo (Amagasaki JPX) Ohnishi Hiroshi (Amagasaki JPX) Yamanishi Kenichiro (Amagasaki JPX) Sas, Semiconductor producing apparatus comprising wafer vacuum chucking device.
  14. Muto, Yasuyo; Iwamoto, Kazunori; Takabayashi, Yukio; Meguro, Takashi, Stage apparatus, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method.
  15. Emoto Keiji,JPX, Stage system with driving mechanism, and exposure apparatus having the same.
  16. Tsukamoto, Izumi; Fujita, Itaru; Nogawa, Hideki; Takabayashi, Yukio, Substrate attracting and holding system for use in exposure apparatus.
  17. Goto, Shigehiro; Matsuchika, Keiji, Substrate heat treatment apparatus.
  18. Takabayashi Yukio,JPX, Substrate holding system and exposure apparatus using the same.
  19. Sakai Fumio (Kawasaki JPX) Isohata Junji (Tokyo JPX), Surface shape controlling device.
  20. Eiriksson,Ari; Gueler,Richard; Pharand,Michel, Uniform gas cushion wafer support.
  21. Avneri Israel,ILX ; Duzi Eyal,ILX ; Keren Dvir,ILX ; Regev Avner,ILX, Vacuum chuck having vacuum-nipples wafer support.
  22. Tsuji Hitoshi (Kawasaki JPX), Wafer stage apparatus for attaching and holding semiconductor wafer.
  23. Amemiya Mitsuaki (Atsugi JPX) Sakamoto Eiji (Sagamihara JPX) Uda Koji (Yokohama JPX) Ozawa Kunitaka (Isehara JPX) Iwamoto Kazunori (Yokoyama JPX) Uzawa Shunichi (Tokyo JPX) Marumo Mitsuji (Atsugi JPX, Wafer table and exposure apparatus with the same.
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