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Heating furnace and heating method employed by heating furnace 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F27B-005/18
  • F27B-005/16
  • B23K-001/00
  • B23K-001/008
  • F27B-005/04
  • F27B-005/14
  • F27D-007/06
  • F27D-019/00
출원번호 US-0448356 (2008-08-06)
등록번호 US-9033705 (2015-05-19)
우선권정보 JP-2007-208785 (2007-08-10)
국제출원번호 PCT/JP2008/064083 (2008-08-06)
§371/§102 date 20090618 (20090618)
국제공개번호 WO2009/022590 (2009-02-19)
발명자 / 주소
  • Matsuura, Masanari
  • Oi, Sotaro
  • Kubota, Tomoyuki
  • Tsuruta, Masaya
출원인 / 주소
  • TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA
대리인 / 주소
    Oliff PLC
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 7

초록

A hydrogen vacuum furnace (100) is provided with a process chamber (1) wherein a subject (10) to be heated is stored; a heating chamber (2) wherein a heater lamp (25) is stored; and a crystal board (3) for separating the subject (10) and the heater lamp (25) one from the other. In the hydrogen vacuu

대표청구항

1. A heating furnace for heating a subject to be heated by radiation, comprising: a first chamber in which the subject will be placed, the first chamber including a first gas feed port configured to feed a first gas and a first gas exhaust port configured to exhaust the first gas;a second chamber pl

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Tanaka Sumi (Yamanashi-ken JPX) Fujikawa Yuichiro (Yamanashi-ken JPX) Yonenaga Tomihiro (Yamanashi-ken JPX) Lee Hideki (Nirasaki JPX), Film deposition processing device having transparent support and transfer pins.
  2. Okase Wataru (Sagamihara JPX) Yagi Yasushi (Zama JPX) Kawachi Satoshi (Yokohama JPX), Heat treatment method and apparatus thereof.
  3. Seki, Kyohei; Suzuki, Shinji; Mizukawa, Yoichi, Heating process of the light irradiation type.
  4. Evenson Euan J.,CAX ITX L7L 2M7, Method and apparatus for sampling and analysis of furnace off-gases.
  5. Mezey ; Sr. James J., Methods and apparatus for thermally processing wafers.
  6. Kinoshita Yoshimi,JPX ; Kanda Tomoyuki,JPX ; Kitano Katsuhisa,JPX ; Yoshida Kazuo,JPX ; Ohnishi Hiroshi,JPX ; Yamanishi Kenichiro,JPX ; Sasaki Shigeo,JPX ; Komori Hideki,JPX ; Eshima Taizo,JPX ; Tsut, Semiconductor producing apparatus, and wafer vacuum chucking device, gas cleaning method and nitride film forming method.
  7. Kawase, Yoshimasa, Wafer heat-treatment system and wafer heat-treatment method.
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