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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0203400 (2010-03-03) |
등록번호 | US-9068261 (2015-06-30) |
우선권정보 | JP-2009-056642 (2009-03-10) |
국제출원번호 | PCT/JP2010/001462 (2010-03-03) |
§371/§102 date | 20110825 (20110825) |
국제공개번호 | WO2010/103751 (2010-09-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 44 |
An atomic layer deposition apparatus, which forms a thin film on a substrate, includes a first container that defines a first inner space and includes a substrate carrying-in and carrying-out port and a gas introduction port in different positions, the substrate being carried in and out through the
1. An atomic layer deposition apparatus for forming a thin film on a substrate, comprising: a first container that defines a first inner space and includes a substrate carrying-in and carrying-out port and a gas introduction port in different positions, the substrate carrying-in and carrying-out por
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